High Power Pulsed Magnetron Power Supply
High Power Pulsed Magnetron Power Supply Kostir mikils máttur pulsed Magnetron Sputtering Technology (HIPIMS) ● Venjuleg DC magnetron höggkraftur er takmarkaður af hitauppstreymi álagsins. ● Meirihluti jónanna er hægt að umbreyta til varmaorku í ...
- Vörukynning
Kostir mikils máttur pulsed Magnetron Sputtering Tækni ( HIPIMS )
● Venjulegur DC magnetron höggkraftur er takmörkuð af hitauppstreymi marksins.
● Meirihluti jónanna sem er samsettur í samskeyti getur beint breytt í varmaorku marksins.
● Pulsed magnetron máttur uppspretta tryggir mikla púls máttur og lítil vakt hringrás.
● Pulsed magnetron máttur uppspretta getur beint skipta DC magnetron sputtering aflgjafa.
Samanburður milli háspennu pulsed Magnetron Sputtering útskrift og DC Magnetron Sputtering útskrift
Lögun af hár máttur pulsed Magnetron Sputtering útskrift | Lögun af Dc Magnetron Sputtering útskrift |
Kaþóra útskrift spenna er 500 ~ 2000 V, núverandi þéttleiki er allt að 3 ~ 4A / cm2. | Styrkleiki segulsviðsins er 0,01 ~ 0,05 T en vinnuspenningin er 300 ~ 700 V undir dæmigerðri DC magnetron sputtering vinnuþrýstingi (1 ~ 10 mTorr). |
Rafþéttleiki nálægt undirlagsyfirborðinu : 10 18 ~ 10 19 m - 3 | Rafþéttleiki nálægt undirlagsyfirborðinu: 10 15 ~ 10 16 m -3 |
Aflþéttleiki: 1 ~ 3kW / cm 2 | Lágt jónunarhraði (~ 1%) marksins við spýtingu. |
Tíðni: 100 ~ 1000Hz | Inert gasjónir eru í meirihluta |
Skyldahringur: 1% ~ 10% | Viðbótarupplýsingar tengd jónunarbúnaður (RF af örbylgjuofn) er þörf. |
Lögun af hár máttur púlsa Magnetron Sputtering Power Supply
● Jákvæð og neikvæð rafskautskleðja er stjórnað af háhraðaviðskiptum til að koma í veg fyrir að það komi inn í bogaútgeislunarsvæði frá óeðlilegri útblásturslofti frá hefðbundnu magni sprauta. Núverandi þéttleiki er allt að 1018 - 1019 / m3, sem er ákaflega hærri en hefðbundin magnetron sputtering. Og með mjög mikilli jónunarhraða 80% -99%, getur það auðveldlega sett inn margs konar háþróaða kvikmyndir með sterka viðloðun.
● Spennandi máttur með miklum kraftpúðum, með miklum kraftmöguleika, gefur meira framúrskarandi kvikmyndareiginleika hvað varðar samkvæmni kvikmynda, hörku, slitþol og viðloðun.
● PHP boga kúgun tækni tryggir að notendur geti stjórnað gæðum myndarinnar þægilegra í því ferli yfirborðsmeðferðar. Með lögun spennu stöðugleika og hugsjón coup de foue, aflgjafinn getur í raun hamlað boga á workpiece yfirborði, og verulega bæta framleiðslu ávöxtun, yfirborð fineness og kvikmynd viðloðun plating stykki.
● Hátt máttur pulsed magnetron aflgjafa samþykkir háþróaður hár-tíðni inverter skipta aflgjafa tækni og hár máttur IGBT máttur mát
● Með örgjörvum snertiskjásins er aflgjafinn mjög samþættur og öflugur með auðveldum aðgerðum. Sýningin um núverandi og spennu er mjög skýr og innsæi. Einnig styður það multi-rás háhraða telja og háhraða púls virka.
● Aflgjafinn hefur verndaraðgerðir fyrir ofstreymi, ofspennu og ofhitastig.
● Aflgjafinn getur átt samskipti við gestgjafi tölvunnar í gegnum stafrænar portar eins og RS232, RS485, WIFI og svo framvegis, sem stækkar stjórnunaraðgerðina.
Vara forskrift:
Vara Gerð | |
Input Power & Frequency (V / Hz) Þrjú stig og fjórir vír | AC380 + N |
| 60Hz | |
Output Current Range (A) | 0 ~ 500 |
Nákvæmni fyrir Constant Voltag og Constant Current | ≤1% |
Rated Output Voltage (DCV) | 800 |
Hámarks meðalgildi (KW) | 40 |
Hámarksstyrkur (KW) | 400 |
Skylda (%) | <> |
Þyngd (KG) | 60 |
Ytri víddir (MM) | 575 (D) × 480 (W) × 250 (H) |
B | |
Framleiðni (%) | 90 |
Inniheldur verndarflokkur | Ip21 |
Notkunarstilling | Constant Voltage, Constant Current og Constant Power Modes eru valfrjálst. |
Kælivísir | Vatnskæling |
Ytri tengi | Þessi röð vörur allar samþykkja snerta skjár microcontroller |
Samanburður á High-Power Impulse Magnetron Sputtering Power Source EP50A80H og aðrar vörur
High-Power Impulse Magnetron Sputtering | |||
Merki | Hauzer | IKS | |
HIPIMS + | EP50A80H | ||
Hámarks meðalgildi | 20KW | 20KW | 40KW |
Hámarksstyrkur | 1MW ~ 8MW | 360KW | 400KW |
Spenna | 1KV, 2KV | 800 | 800 |
Núverandi | 1KA, 2KA, 4KA | 600 | 500 |
Arc uppgötvun | <> | <> | <> |
Pökkun (B * H * T) | 483x635x676 | núll | 480x268x700 |
Kostir hárpúðar pulsed Magnetron Sputtering Power EP50A80H
● Hár áreiðanleiki
EP50A80H gefur framúrskarandi kvikmyndareiginleika hvað varðar samkvæmni kvikmynda, hörku, klæðast viðnám og viðloðun.
● Framúrskarandi hringrásartækni
EP50A80H samþykkir PHP boga bælingartækni, þannig að notendur geti auðveldlega stjórnað gæðum kvikmyndarinnar við yfirborðsmeðferð til að fá betri kvikmyndagerð.
EP50A80H getur komið í stað núverandi sprautunarmagnspenningsins fyrir rafeinda. Í stað þess að skipta um bakskautsefni og segulsviði, þurfa notendur aðeins að skipta um kælikerfið.
● Stórt hlutfall í hlutfalli við rúmmál
Hátt vökvahlutfall gerir aðlögun búnaðarins auðveldara fyrir notendur.
Umsókn
High Power MF magnetron sputtering aflgjafa er mikið notað í plasma, líkamlegum, efnafræðilegum, læknisfræðilegum og ýmsum vísindalegum rannsóknum sviðum, það getur mætt ýmsum kröfum ferli sérstaklega í tómarúm húðun búnað.
