Mjög hátíðni Plasma Chemical Vapor Deposition (VHF-PECVD)

Þegar þunnar filmur eru unnar með RF-PECVD tækni, til að ná lághitaútfellingu, verður að nota þynnt sílan sem hvarfgas, þannig að útfellingarhraði er takmarkaður. Vhf-pecvd tækni er mikið notuð í hagnýtum forritum vegna þess að plasma sem örvað er af VHF hefur lægra rafeindahitastig og hærri þéttleika en plasma sem myndast með hefðbundinni útvarpstíðni [2], sem getur bætt útfellingarhraða kvikmyndarinnar til muna.

IKS PVD fyrirtæki, skreytingarhúðunarvél, verkfærahúðunarvél, DLC húðunarvél, sjónhúðunarvél, PVD tómarúmhúðunarlína, turn-key verkefnið er í boði. Hafðu samband við okkur núna, tölvupóst: iks.pvd@foxmail.com