Electron Beam uppgufunarkerfi

Rafeindabjálk og varma uppgufunarkerfi. Planetary eða einföld snúningur stigum getur falið í hitun við hitastig hærra en 950 ° C, eftir stærð stærðar og efni. Jón uppsprettur fyrir IBAD og undirlag fyrir hreinsun er hægt að samþætta inn í kerfi eins og heilbrigður. Uppgufunarkerfi eru með fullum dælustöðvum, handvirkum eða raf-pneumatic lokar, öll tómarúm gauges, kraftur dreifingar kassi, rafeindabúnaður, vatn og loft margvíslega og öryggi interlocks. Kerfi er hægt að stjórna handvirkt eða með tölvu stjórna. Substrate hitari og manipulators geta verið hönnuð fyrir non-staðall undirlag form og stærðir. Umsóknir innihalda grunn efni rannsóknir, SAW tæki, sílikon og GaAs wafer málmvinnslu, MEMS eða sýna tækni, og fleira.

Mörg kerfi valkostir eru í boði, þar á meðal fjölbreytt úrval rafeinda geisla og hitauppstreymi heimildir, aflgjafa, samþættingu jón geisla eða magnetron sputter heimildir, RGA, UHV getu, multi-wafer hlaða lokka og í-staðnum skjáir.