Hönnunaraðferð fyrir þéttleiki einsleitni sprautunarhúðuðu Magnetron

Hönnunaraðferð fyrir þéttleika einsleitni sprautunarhúðaðar segulmagnaðir

Magnetron sputtering lag er einn af ómissandi tækni í nútíma iðnaði. Magnetron sputtering húðun tækni er mikið notað í gagnsæri leiðandi kvikmynd, sjón kvikmynd, frábær harður kvikmynd, andstæðingur-tæringu kvikmynd, segulmagnaðir kvikmynd, andspegla kvikmynd, andspeglun kvikmynd og ýmsum skreytingar kvikmynd. Það gegnir sífellt öflugri hlutverki í varnarmálum og landsframleiðslu. Vandamálið með jafnvægi myndunarþykktar, útblásturshraði og nýtingartíðni í málmvinnsluferlinu er mjög áhyggjuefni í raunframleiðslu. Aðferðin til að leysa þessi vandamál er að hagræða heildar hönnun allra þátta sem taka þátt í því að sprauta úrgangi og koma á alhliða hönnunarkerfi til að sprauta húðun. Sameiginleiki kvikmyndarþykktar er ein mikilvægasta þátturinn í því að sprauta fráviki, þannig að það er afar fræðileg og hagnýt gildi til að kanna alhliða hönnun þéttleika einsleita kvikmynda.

IKS PVD, við munum hanna PVD tómarúm húðkerfi, í samræmi við kröfur viðskiptavina, gerðu hæfilegan hönnun fyrir þig fyrst. Þá aðlaga viðeigandi vél.

Meðan á þróun segulmagnaðir sprauttækni er að koma í ljós bylting í ýmsum tækni sem almennt er ætlað að mynda plasma og stjórna plasma. Með því að stjórna dreifingarstærðum mismunandi tegunda agna í rafsegulsvið, hitastigsvið og pláss getur kvikmyndin gæði og eiginleika uppfyllt kröfur ýmissa atvinnugreina.

Þéttleiki kvikmyndarþykktar er nátengd vinnuskilyrði segulsviðsmælingarmiðils, svo sem etsunarstað marksins og rafsegulsviðs marksins, osfrv. Til þess að tryggja einsleitni kvikmyndarþykktar er erlend kvikmynd undirbúningsfyrirtæki eða framleiðslutæki fyrir húðunartæki hafa sitt eigið heill setja af hönnunarkerfum fyrir húðunarbúnað (þ.mt kjarnaþátturinn "markmið"). Á sama tíma eru mörg fyrirtæki sem sérhæfa sig í miðunargreiningu, hönnun og framleiðslu og þróun viðeigandi hugbúnaðar fyrir hugbúnað, í samræmi við kröfur viðskiptavina um búnaðinn hagræðingarhönnun. Enn er stórt bil milli innlendra og alþjóðlegra háþróaðra stiga við greiningu og hönnun á húðbúnaði.

Þess vegna er mikilvægt að koma á alhliða hönnunarkerfi til að sprauta húðun. Stofnun kerfisins er hægt að framkvæma í samræmi við heildstæðan hönnun á hluta hönnunarinnar og síðan með hluta hönnunarinnar smám saman inn í heildarhönnunarhönnunina, það er "allt að hluta og síðan til allt "þetta dynamic hönnun hugtak, stöðugt að bæta hönnun kerfi. Mun sputter lagið lista mikilvæga þátta sem taka þátt, finna út innri tengsl milli þeirra og þá koma á sputtering lag, alhliða hönnun kerfi byggt á rannsókn á myndun þykkt einsleitni og gera foreshadowing fyrir seint í hugbúnað hugbúnaðar, til að hrinda í framkvæmd undirbúning af þunnt kvikmyndaleikni, gott kvikmynd stórt svæði, veita sterka ábyrgð á framleiðslu.

1. Hönnun kerfis eiginleika

Þéttleiki samdráttar filmuhraða er ein af lokastaðlinum fyrir óbeina mælingu á húðunarferli, sem felur í sér alla þætti lagunarferlisins. Þess vegna er nauðsynlegt að koma á fót alhliða hönnunarkerfi fyrir einsleitni kvikmyndagerðarinnar til að búa til hágæða kvikmyndir með góðri einsleitni kvikmyndarþykktar, flokka, draga saman og draga saman alla þætti sputtrunar kvikmynda og finna út innri samskipti þeirra. Almennt séð ætti stofnun hönnunar kerfis að hafa ákveðnar meginreglur til að ákvarða grunnskipulag sitt. Eðli hennar er lýst af eftirtöldum fjórum þáttum: (1) almennt: kerfið er krafist innan ákveðins sviðs gildir eða alhliða. Fyrir þetta verkefni getur kerfið mætt grundvallarferliskröfur sputtrunarfilmsins á iðnaðarflötunum, það er algeng vandamál í sprautunarferli kvikmyndarinnar. (2) sérkenni: kerfið fyrir tilteknar rannsóknarhlutir til að ná fram bestu notagildi. Fyrir stóru flatflötunarsprautunarfilmur þýðir það að stærðáhrif í sputterfilmum verða mikilvægur hluti af kerfinu, svo sem einsleitni kvikmynda, einsleitni í hvarfefni, línuleg stækkun og aflögun efna, miðlungs dreifingu á dreifingu, gasdreifingu og rafsegulsviðsdreifing. Þessi röð af vandamálum er lögð áhersla á stærð áhrif. Svo stærð áhrif verða persónuleiki vandamál kerfisins. (3) hreinskilni: Hver hluti kerfisins er lífræn samsetning og stöðug þróun. Með tækniframförum mun hver hluti aðgerðarinnar þróast frekar til að bæta árangur kerfisins. Þróun sjálfvirkrar stjórntækni gerir kerfið öflugt: vöktunartækni plasma litrófsins í sprautunarferli og stjórngetu rafsegulsviðsins gerir kerfinu kleift að stjórna breytur heildar sputtaferlisins að hámarki og ná fram fínu hönnun. Hreinleiki kerfisins tilheyrir láréttri þróun. (4) arfleifð: kerfið þróast að vissu marki, það mun gerast með því að magn breyting á ferli eigindlegrar breytingar. Á grundvelli upphaflegrar virkni baowangs er kerfið stöðugt bætt og bætt. Tæknin um þunnt kvikmyndagerð verður þróuð með þróun kenningarinnar. Fræðileg rannsókn á ójafnvægi magnetron sputtering og plasma hefur stuðlað að frekari þróun sputtering tækni. Þá er kerfið uppfært til að ná fram nýjum aðgerðum. Erfðir eru lóðrétt þróun kerfisins.

2. Stofnun hönnunar kerfisins

Almennt mun aukningin á einum hluta kerfisins leiða til aukinnar heildarvirkni, en draga úr ósjálfstæði kerfisins á sumum hlutum, eða það má skilja sem: lífræna samsetningin af tveimur mikilvægum þáttum kerfisins í einn hluti. Stofnun samþættrar hönnunar er gagnlegt við rannsókn á innri rökréttum samskiptum hvers hluta kerfisins.

Alhliða hönnunarkerfi stórhreinsunarhúðunar má skipta í þremur hlutum: T vinnsluhönnun húðunarbúnaðar, hönnun húðunarferlis og tölfræðileg túlkunarhönnun hvers ferli, með vísan til mynda l. Hver hluti er skipt í þúsundir þætti og hlutarnir hafa samskipti við hvert annað. Vegna þess hversu flókið kerfið er, ætti grunnskjár kerfisins að vera komið á fót til að einfalda hönnunarbreytur til að bæta nothæfi hennar.

2.1 verkfræðihönnun húðunarbúnaðar

Fyrir sputtering lag, það er hægt að reikna út frá tómarúm kerfi, rafsegulsvið, gas dreifingu, varma kerfi og öðrum þáttum. Vélaframleiðsla og eftirlit hlaupa í gegnum allt verkfræðihönnunarferlið, eins og sýnt er á mynd 2.

2.1.1 tómarúmskerfi

Tómarúmskerfi hönnun er tiltölulega þroskaður hönnun hluti, aðallega þar á meðal eftirfarandi fjóra hluta:

(1) hólf uppbygging - hönnun formi er stillt af kerfinu vinnsluhamur. Tómarúmshólfinu er hægt að hanna sem eitt hólf, fjölhólf og framleiðslulína. Fyrir hólfið sem framleiðir flatt undirlag ætti að framkvæma styrk, stífni, stöðugleika og aðra hagræðingarhönnun, en íhuga hagkvæmni og einfaldleika vinnslutækni.

(2) efni val - í samræmi við kröfur tómarúm aðferð, velja efni sem uppfyllir kröfur lágmark mettun gufuþrýstingur, góð hitauppstreymi og efnafræðilegur stöðugleiki, auðvelt uppgufun og lágt loft gegndræpi. Til dæmis, austenitic ryðfríu stáli, ál, loftfleti kopar og svo framvegis. Í stórum stíl búnaði, til þess að draga úr heildarþyngd búnaðarins eða hreyfanlegu hlutum, er hægt að gefa forgang til val á ál og öðrum léttmálmum.

(3) hönnun tómarúma íhluta - tómarúm innsigli, rafskaut kynning, leiðsla og loki, o.fl. Vacuum þættir sem notuð eru í mismunandi ferli aðstæður eru mismunandi.

(4) Val á tómarúmdælu og tómarúmsmælum - Almennt er hægt að hanna samkvæmt almennum kröfum um verkfræði. Nákvæm hönnun krefst magns útreikninga á dreifingu vinnslu gasþéttni í tómarúmshólfinu. Mismunandi gerðir af gasi og mismunandi hreinsunarþörfum lofttæmishólfs þurfa að velja mismunandi tómarúmdælur og tómarúmsmælar. Afturolía lofttæmipúlsins mun valda mengun við hvarfefni og hvarfgasið eins og súrefni mun oxa dæluolíuna. Því er þurr olía-frjáls tómarúm dæla oft valin sem tómarúm dæla kerfi.

2.1.2 rafsegulsvið

Hin tiltölulega nákvæma rafsviðhönnun er að líkja eftir rafsegulsviðinu í sprautunarferlinu, frekar en að einfalda rafsegulsvið magnetron sputtering búnaðarins þegar það virkar ekki.

Val á aflgjafa: val á "aflgjafa" skal ákvörðuð í samræmi við mismunandi ferli, algengan DC aflgjafa, ef aflgjafa, rafmagns framboð og hægt er að gera sér grein fyrir fjölbreyttri aflgjafasamstæðu af blendinga aflgjafa.

Efni val: fyrir rf aflgjafa, manninn máttur og samsvörun er mjög mikilvægt mál. Rafskaut hleðsla efni af hár-máttur RF aflgjafa krefst mikillar yfirborðsleiðni og góð efnafræðileg stöðugleiki. Efnið í segulstýrðu miðanum má skipta í samræmi við magn segulmagnaðir gegndræpi. The segulmagnaðir stígvélum eru hár gegndræpi efni, sem eru yfirleitt hreint iðnaðar járn.

Anóða og skjöldur: Rýmastaða, hugsanleg tengsl, stærð og svæði og efnisþættir anóða skulu íhugaðar í anóðahönnun til að tryggja stöðugt sputtaferli. Í hönnun skjalsins ætti að líta á rafmagnsviðhönnun og hugsanlega tengingu fyrst til að koma í veg fyrir að efni sem ekki er miðað við málið sé sputtered og mengað kvikmyndina. Í öðru lagi, að teknu tilliti til frammistöðu varnarefna, eru efni með lágt mettun gufuþrýsting, há sputteringarmörk og í samræmi við kröfur tómarúmferlisins almennt valdir.

2.1.3 gas dreifingu

Dreifing gas er afar mikilvæg fyrir plata undirlagslagið. Með hönnun vélrænni uppbyggingar er breytingartíðni þéttleika gasþéttni í lágmarki í úðunarbeltinu, en utan svæðisins er flæðisleiðbeining kerfisins hámarkað til að bæta nýtingarhlutfall gas og skilvirkni útdráttarbúnaðarins. Vélrænir hlutar eða mannvirki sem stjórna gasdreifingu eru loftdreifikerfi, uppbygging tómarúmshólfsins og dælakerfisins.

2.1.4 hitakerfi

Hitakerfi til að mæta tómarúmskerfinu bakstur og kvikmyndavöxtur sem þarf við hitastig.

Ofangreindir fjórir þættir og aðrir sem ekki eru lýstir fela í sér tvær hliðar vélrænni framleiðslu og stjórnunar, svo að þættir eins og machinability og svarartími ætti að íhuga.

2.2 húðvinnsluhönnun

Milli mismunandi himnaefni skal íhuga að þurfa mismunandi útfellinguferli, framkvæmd mismunandi sputteringartækni (DC, miðlungs tíðni, útvarpsbylgju, púls, viðbragðsstöðu og samsetningin milli þeirra og tækniþróun eða notkun nýrrar tækni osfrv.), sömu tækniaðlögun á mismunandi vinnubreytum (máttur, loftþrýstingur, afhendingaraðferðir osfrv.), formeðferð (hreinsun, forhitun osfrv.), endurnýjun, hitameðferð osfrv.).

Allt ferlið við húðun er skipt í fjóra, tiltölulega óháðar ferli, með vísan til mynd 3. Almennt er breytur sem fela í sér plasma-, markflöt og undirlagsskiptabreytingar stórlega þættir sem þarf að stjórna í ferlinu.

Gas útskrift: Ljós útskrift býr plasma, dissociates vinnandi gas, býr katjón, og bombards bakskaut undir aðgerð rafmagns sviði, í fylgd með efri rafeinda losun og önnur fyrirbæri. Rannsóknin á útblásturslofti í ljósi er eini leiðin til að rannsaka sputteringafhleðsluferlið.

Sprenging árekstur: Yfirleitt er spátrun árekstrar að rannsaka samskipti milli hlaðinna jóna og yfirborðs agna markhópsins, og kynslóðarferlið af atómatómum og atómklofningum. Mest notaður kenningin er kaskadáreksturstefnan. SRIM og önnur þroskaður hugbúnaðarhugbúnaður hefur verið mikið notaður í því að sprauta eftirlíkingu.

Flutningsferli: hreyfingu miðastofnanna gagnvart undirlaginu og öðrum yfirborðum með ákveðnum upphafshraða, ásamt breytingum á orku og skriðþunga, og að lokum netleiðarbindi (fjöldi agna). Undir aðgerð utanaðkomandi svæðis (massa, skriðþunga, orka) er flutningaferlið flóknara. MC og aðrar aðferðir (PIC, CIC, CFD, osfrv.) Eru almennt notaðar til að fá fjölda agna sem er afhent á hvarfinu. Einfölduð útreikningsaðferð fyrir æðabreytingar skiptir niður í agnirnar í fljótandi agnir (engin árekstur, beint á undirlagsyfirborðið) og hægar agnir (árekstur, dreifing hreyfingar á undirlagsyfirborðinu). Áhrif upphitunar gas, þynningar og sputter vindur (háir orku hlutlaus agnir) eru afleiðing af skriðþunga og orku skiptast á milli gas og ötull agna í gegnum árekstur.

Kvikmyndavöxtur: Dreifing, flutningur og samlagning miðatóma á undirlaginu leiðir loksins til vaxtar kvikmynda. Eiginleikar þunnra kvikmynda eru nátengdir hitastig, grindarstöðvar, yfirborðsstöður og rafsegulsvið undirlaganna. Eiginleikar kvikmyndarinnar verða alvarlega fyrir áhrifum af meðhöndlun kvikmyndarinnar á síðari stigum, svo sem glæðingu. MC og aðrar aðferðir eru almennt notuð til að líkja eftir vexti þunntra kvikmynda. Á sama tíma geta sum fyrirtæki náð faglegum hugbúnaðarhreyfibúnaði.

2.3 töluleg uppgerð hönnunar

Ferlið við úthreinsun var endurreist með tölvuleikjum og hönnunarniðurstöðurnar voru sýndar og greindar til að hámarka verkfræði- og vinnsluhönnunina, eins og sýnt er á mynd 4.

Verkfræðihönnun getur náð parametric hönnun: notkun núverandi auglýsing hugbúnaður: Pro / E, UG, Ansys og önnur framhaldsþróun. Aðferð hönnun er að líkja sputtering ferli með því að hanna eða nota núverandi hugbúnað til að greina og hagræða ferlið og greina áhrif vélrænni uppbyggingu á ferlið.

Hönnunarferlið er þróað í almennri hönnun hugbúnaðar til að átta sig á 3D líkanagerð og vélrænni alhliða flutningsgreiningu á vélrænni uppbyggingu (hluti af verkfræðihönnun), rauntíma eftirlíkingu á ferli og greiningu á rafsegulsviði, hitasvæðinu og dreifingu jarðefna, svo og visualization af uppgerð aðferð til að hagræða ferli og vélrænni uppbyggingu. Geta skipst á gögnum með öðrum hugbúnaði.

Hin frekari þróun er að flytja allt hönnunarferlið frá hluta hönnun til heildarhönnunar til að útrýma mannlegum þáttum að mestu leyti. Þróa greindur hugbúnaður kerfi með sérfræðingur kerfi, parametric hönnun, sjálfstýringu og fjarlægur gangur.

Verkfræðihönnun húðunarbúnaðarins, hönnun húðunarferlisins og tölfræðileg tölfræðileg eftirlíking þessara tveggja eru viðbót við hvert annað: húðbúnaðurinn ákvarðar framkvæmd lagunarferlisins, húðunarferlið stuðlar að uppfærslu á húðbúnaðinum, og hár-flutningur tölva uppgerð hönnun veitir sterkan stuðning við hönnun tveggja.