Afhverju er segulsviðshönnunin svo mikilvæg?

Magnetron sputtering tækni hefur orðið einn af mikilvægustu afhendingu húðun aðferðir á undanförnum áratugum. Það er mikið notað í iðnaðarframleiðslu og vísindarannsóknum. Til dæmis, í nútíma machining iðnaður, magnetron sputtering tækni er notað til að kápa hagnýtur kvikmyndir, frábær-harður kvikmyndir og sjálf-smurning kvikmyndir á yfirborði workpieces. Á sviði ljóseðlisfræði er magnetron sputtering tækni notuð til að hylja antireflection kvikmyndir, kvikmyndir með litlum losun og gagnsæjum kvikmyndum, hitaeinangrandi kvikmyndum. Magnetron sputtering tækni gegnir einnig mikilvægu hlutverki á sviði örgjörva, sjón- og segulmagnaðir upptöku. Hins vegar hefur magnetron sputtering tækni einnig sína eigin galla, svo sem lágt marknýting, lágt útfellingartíðni og lágt jónunarhraði. Lágmarksnýtingarhlutfallið stafar af því að lög eru á markhópnum, sem takmarkar plasma við staðbundið svæði markhópsins og veldur því að svæðið sé sprautað. Lögun laganna er ákvörðuð af segulsviðsbyggingu á bak við markið. Lykillinn að því að bæta nýtingu markmiðsins er að stilla segulsviðs uppbyggingu þannig að plasma sé til í stærri markhópi til að ná fram samræmda sputtering. Fyrir sprauta segulmagnaðir er hægt að auka sprautunarávöxtunina með því að auka markmiðið, en markmiðið má bráðna og sprunga vegna hitauppstreymisins.

Þessar vandamál geta verið leyst með því að auka sprautunarsvæði markhópsins þegar um er að ræða sama marksvið, sem leiðir til lækkunar á styrkþéttleika markhópsins. Þess vegna hefur segulmagnaðir hönnun magnetron sputtering bakskautið verið stöðugt bætt. Sumir þeirra eru dæmigerðir:

1. Hringlaga planar segulmagnaðir sputtering uppspretta, lögin á miðlínuyfirborðið fara í gegnum miðju marksins með sanngjörnu hönnun segulsviðsins og segullinn er snúinn af vélrænni sendibúnaðinum til að ná fullum sputtering á markflötinu.

2. Rétthyrnd planar magnetron sputtering uppspretta, blanda af seglum gera demantur eða plóma blóma lagaða hreyfingu á bakhlið marksins með sendingarmiðluninni, þannig að heildarmarkmið nýtingartíðni sé allt að 61%. Aðlaga uppbyggingu segulsviðsins getur einnig bætt einsleitni kvikmyndarþykktarinnar. The ójafnvægi magnetron sputtering tækni þróað með því að stilla hlutfall af styrk segulsviðsins hefur virkni jónplata. Þannig að segulmagnaðir hringrásarhönnunin er mikilvægasti hlutinn í sprautunarheimildinni.