Hvað er Vacuum Deposition

Tómarúmlosun er fjölskylda ferla sem notuð eru til að leggja lög af efnisatómum í atóm eða sameinda-eftir sameind á föstu yfirborði. Þessar aðferðir starfa við þrýsting vel undir loftþrýstingi (þ.e. lofttæmi). Aflagðir lögin geta verið allt frá þykkt eins atóms allt að millimetrum og myndast frystir mannvirki. Hægt er að nota margar lög af mismunandi efnum, til dæmis til að mynda sjón húðun. Ferlið getur verið hæft byggt á gufu uppsprettunni; Líkamleg gufuútfelling notar fljótandi eða fastan uppspretta og efnafræðileg gufuútfelling notar efna gufu.

Lýsing

Tómarúm umhverfið getur þjónað einum eða fleiri tilgangi:

● að draga úr agnaþéttleika þannig að meðaltali frjáls leið fyrir árekstur er langur

● að draga úr agnaþéttleika óæskilegra atóm og sameinda (mengunarefna)

● að veita lágþrýsting plasma umhverfi

● Að veita leið til að stjórna gas og gufu samsetningu

● að veita leið til að stjórna flæði í vinnsluhólfið.

Þéttingaragnir geta myndast á ýmsa vegu:

● varma uppgufun, uppgufun (afhendingu)

● sputtering

● gufubúnaður

● leysisabætur

● niðurbrot efnafræðilegra gufuafurða, efnafræðileg gufuútfelling

Við hvarfefni er hvarfefnið hvarfast annaðhvort við hluti af lofttegundinni (Ti + N → TiN) eða með samhliða afbrigði (Ti + C → TiC). Hjálparefni í plasma til að virkja lofttegundir (N2 → 2N) og við niðurbrot efnafræðilegra gufuafurða (SiH4 → Si + 4H). Plasma má einnig nota til að gefa jónir til fordæmingar með því að sprauta eða til að sprengja undirlagið til að hreinsa rusl og til að sprengja afhendingu efnisins til að þéttja uppbyggingu og sníða eiginleika (jónplata).

Tegundir

Þegar gufuaflið er fljótandi eða fast er aðferðin kölluð líkamleg gufuútfelling (PVD). Þegar uppspretta er efnafræðileg gufuforvera er ferlið kallað efnafræðileg gufuútfelling (CVD). Síðarnefndu hefur nokkra afbrigði: Léttþrýstingur efna gufuútfelling (LPCVD), Plasma-efnafræðileg gufuútfelling (PECVD) og plasmaþjálftur CVD (PACVD). Oft er sambland af PVD- og CVD-ferlum notað í sömu eða tengdum vinnsluhólfum.

Umsóknir

● Rafleiðni: málmfilmur, gagnsæ leiðandi oxíð (TCO), suðuleiðandi kvikmyndir og húðun

Hálfleiðari tæki: hálfleiðurum kvikmyndir, rafmagns einangrun kvikmyndir

● Sól frumur

● Optical kvikmyndir: andstæðingur-hugsandi húðun, sjón-filters

● Reflective húðun: speglar, heitur speglar

● Tribological húðun: hörð húðun, slitþolið húðun, fastar smurefni í kvikmyndum

● Orkusparnaður og kynslóð: Glerhúðun með litlum losun, sólbrennandi húðun, speglar, sólþunnur kvikmyndarfjölliður, snjallar kvikmyndir

● Magnetic kvikmyndir: segulmagnaðir upptökur

● Diffusahindrun: Hindrunarþröskuldar hindranir, gufuþrýstingshindranir, hindrunarhindranir á föstu formi

● Tæringarvarnir

● Vélknúin forrit: Ljós reflectors og snyrta forrit

● Vinylpappír, framleiðslu á gulli og platínu

Þykkt minni en 1 míkrómetra er almennt kallaður þunnur filmur en þykkt sem er meiri en ein míkrómetra er kölluð húð.