-

2022-1-25Ion geisla sputtering húðun
Ion geisla sputtering húðun -

2022-1-24DC magnetron sputtering húðun
DC magnetron sputtering húðun -

2022-1-21Útvarpstíðni (RF) sputtering húðun
Útvarpstíðni (RF) sputtering húðun -

2022-1-20Ójafnvægi sputtering segulómunarhúð
Ójafnvægi sputtering segulómunarhúð -

2022-1-19Kristallunarstefna á frammistöðukröfum fyrir markefni
Kristallunarstefna á frammistöðukröfum fyrir markefni -

2022-1-18Markmið málmfræðileg tilviksgreining á kornastærð
Markmið málmfræðileg tilviksgreining á kornastærð -

2022-1-17Þrjár grunnaðferðir við kornastærðarmælingar á markefnum
Þrjár grunnaðferðir við kornastærðarmælingar á markefnum -

2022-1-14Hvaða áhrif hefur kornastærð á sputtering miða
Hvaða áhrif hefur kornastærð á sputtering miða -

2022-1-03Gerð ConFlat flans
Gerð ConFlat flans -

2021-12-31Festingaraðferð og atriði sem þarfnast athygli á ConFlat flans
Festingaraðferð og atriði sem þarfnast athygli á ConFlat flans -

2021-12-30ConFlat flans og þéttingarefni
ConFlat flans og þéttingarefni -

2021-12-29Upplýsingar um ConFlat flansa
Upplýsingar um ConFlat flansa


