Kynning á PVD húðun þekkingu

Kynning á PVD húðun þekkingu

IKS PVD, iks.pvd @ foxmail.com

PVD (líkamleg gufudeyfing): ferlið við að flytja atóm eða sameind frá upptökum til undirlagsyfirborðs með því að nota líkamlega ferli. Hlutverk hennar er að gera nokkrar af sérstökum eiginleikum (hár styrkur, klæðast viðnám, hitaleiðni, tæringarþol osfrv.) Agna sem eru úða á fylkinu með minni afköst, þannig að fylkið hefur betri árangur. Grunnupplýsingar PVD: tómarúm uppgufun, sputtering, jón plata (holur bakskaut jón plating, heitt katódón jón plating, boga jón plating, hvarfefni jón plating, RF jón plating, DC útskrift jón plating)

PVD tækni kom fram í undirbúningi þunnt kvikmynda með mikla hörku, lágþrýstingsstuðull, góðan slitþol og efnafræðilegan stöðugleika og aðra kosti. Í fyrsta lagi hefur árangursrík umsókn á sviði háhraða stálverkfæra dregið mikla athygli frá framleiðsluiðnaði um allan heim. Þó að þróa hár flutningur og hár áreiðanleiki húðun búnaðar, hafa menn einnig gert meira ítarlegar rannsóknir á húðun umsókn í sementi karbít og keramik verkfæri. Í samanburði við CVD ferlið er PVD ferli hitastig lágt, undir 600 ℃ þegar beygja styrk klippa tól efni; Innri streituþáttur kvikmyndarinnar er þjappaþrýstingur, sem er meira hentugur fyrir húðun á sementi karbít nákvæmni og flóknum verkfærum. PVD ferli hefur engin skaðleg áhrif á umhverfið, í takt við þróun stefnu nútíma grænna framleiðslu. Eins og er hefur PVD húðunartækni verið mikið notað í húðunarmeðhöndlun karbítmótors, bora, skurðarbora, olíulæsa bora, reamer, kran, vísanlegur fræskeri, beygja blað, sérstakur lagaður skútu, suðu skútu og svo framvegis.

PVD tækni bætir ekki aðeins tengslstyrkinn á milli þunns kvikmyndar og tólmatrúms efni heldur einnig þróar húðunarsamsetninguna frá fyrstu kynslóðinni TiN til TiC, TiCN, ZrN, CrN, MoS2, TiAlN, TiAlCN, tin-aln, CNx, DLC og TLC. ta-c, o.fl. [2]

Aukin segulstýrð segulsviðsbúnaður: Bakskautsboga tækni er að ljúka útfellingu þynnu kvikmynda efnisins undir lofttæmi með því að sundrast markinu í ástand jónanna með lágu spennu og mikilli straumi. The auka magnetron bakskaut boga getur í raun stjórnað boga á yfirborði miða efni með því að nota samskipti rafsegulsviðsins, þannig að jónunarhraði efnisins er hærra og myndin árangur er betri.

Síað bakskautsbylgjanlegt síukerfi (FCA) rafgeislakerfi, sem er útbúið með mikilli duglegur jónafjölgun, er hægt að framleiða með stórum skautum ögnum í plasma og jónsmassasíuhreinsi, eftir að segulmagnaðir síunarmörk jónunarhraða voru 100% og hægt er að sía út stærri agnirnar, þannig að undirbúningur kvikmyndarinnar er mjög samningur og sléttur, með góða tæringarþol og styrkleiki líkamsins er mjög sterkur.

Magnetron sputtering: í tómarúmi umhverfi er skotmarkið sprengjuð af jónískum óvirkum gasjónum með því að sameina virkni spenna og segulsviðsins, sem leiðir til þess að skotið er skotið út í formi jóma, atóm eða sameinda og komið fyrir á undirlaginu til að mynda kvikmynd. Það fer eftir því hvaða jónunar uppspretta er notaður, bæði leiðara og efni sem ekki eru leiðandi má sputtered sem skotmarksefni.

Ion geisla DLC: kolvetnisgas er jónað í plasma í jóninni. Undir samsettri virkni rafsegulsviðsins losnar kolefnisjón úr jóninu. Orkan jónabjálkans er stjórnað með því að stilla spennuna sem er beitt á plasma. Kolvetni jón geisla er beint að hvarfefni og útblástur hlutfall er í réttu hlutfalli við jón núverandi þéttleika. Jón geisla uppspretta stjarna boga lagið er mikil spennu, þannig að jón orku er stærri, sem gerir kvikmyndina og hvarfefni hafa góða viðloðun. Stærri jónastuðullinn gerir hraða hraða DLC kvikmynda hraðar. Helstu kostur jón geisla tækni er að það getur sett inn Ultra-þunnt og multi-lag uppbyggingu, ferli stjórna nákvæmni getur náð nokkrum æðum og galla sem stafar af agna mengun í ferlinu er hægt að lágmarka.