Áhrif undirlagshitastigs á upphæðshlutfalli ZAO Thin Films

Mynd 4 sýnir að frásogshraði er óviðunandi við breytingar á hitastigi undirlags. Aðferðarstærðirnar eru: viðbrögð þrýstingur er 0,7 Pa, flæði hlutfall O2 gas og Ar gas er 3/20, sputtering máttur er 140 W. Með aukningu á hvarfefni hitastig, viðloðun stuðullinn af gas fasa atóm á yfirborði undirlagsins eykst og úrgangshraði ætti að minnka. Hins vegar er áhrifin í þessari tilraun ekki stór. Þetta er líklega vegna þess að tækið sýnir hitastigið er ekki í samræmi við raunverulegt hitastig eða vegna etch skemmdir á undirlagsyfirborðinu með sputtered agnunum.

Tveir punktarnir við 170 ° C og 230 ° C eru grafaðar á ferlinum á mynd 4 og settar fram sem mynd 4.1, aðrar aðferðafræðilegir breytur eru þau sömu. Það má sjá að við lægri flæðishraða er frásogshraði í grundvallaratriðum óbreytt og skyndilega breytingar á útblásturshraða eru nánast þau sömu á báðum stöðum en við hærra flæðishraða verður úrgangshraði stærra sem undirlagshiti eykst. Þess vegna getur háhiti ekki frestað fyrirbæri eitrunarmarka, en það getur dregið úr hraða breytinga á útblásturshraða. Það má sjá á mynd 4.1 að hvort breyting á viðmiðunarþrýstingi, sprautunarafl eða upphitunarhitastig er frásogshraði kvikmyndarinnar í samræmi við þróun O2 flæðisins, mun hún fara yfir umskipti frá málmstillingu til oxíð ham bæði vegna eitrunarmarka. Þannig er hægt að auka gasþrýsting, afl og hitastig á viðeigandi hátt til að fá hærri útblásturshraða til að draga úr eitrunarmarkmiðinu.

Mynd 4 Tengsl milli hvarfhita og frásogshraða

Mynd 4.1 Tengsl milli O2 gasflæði og frásogshraða við mismunandi hitastig undirlags