Atómlagsútfelling (ALD)

Atomic Layer Deposition (ALD) má líta á sem eins konar CVD. Ald er aðferð til að framleiða tvöfaldar samsettar filmur með því að sprauta gasfasa undanfarapúlsum til skiptis í reactor og efnafræðilega aðsogast og endurkasta þeim á útfellingarundirlagið.

Ferlið er svipað og almenna CVD ferlið, en yfirborðsviðbrögð atómlagsútfellingar í ALD eru sjálftakmarkandi, nefnilega efnasog sjálftakmarkandi (CS) og raðhvarf sjálftakmarkandi (RS), efnahvörf nýja lotukerfisins. filman er beintengd fyrra lagi, á þann hátt að aðeins eitt lag af atómum er sett í hvert hvarf.
Til viðbótar við sjálfstakmörkun, í ALD ferlinu, þarf að aðskilja móðurefnið eftir ákveðna viðbrögð til að stjórna stigi hvarfsins og endanlegri filmuþykkt.
Við aðskilnað eru umframhvarfaforeldri og aukaafurðir hvarfsins fjarlægðar úr holrýminu með skyndilegri inndælingu á miklu magni af aðskilnaðargasi (Ar eða N2). Þetta tryggir að filman geti fallið út á undirlagið á skipulegan og magnbundinn hátt.

IKS PVD fyrirtæki, skreytingarhúðunarvél, verkfærahúðunarvél, DLC húðunarvél, sjónhúðunarvél, PVD tómarúmhúðunarlína, turn-key verkefnið er í boði. Hafðu samband við okkur núna, tölvupóst: iks.pvd@foxmail.com